海德专业生产高精密平面研磨机,平面抛光机,双面研磨机,双面抛光机,研磨液,抛光液,抛光皮,抛光垫,研磨盘,抛光盘,承接平面研磨抛光,镜面抛光加工
打样测试,按客户的需求定制平面研磨抛光机,研磨液,抛光皮,研磨盘等.我们还会参与客户的生产,保证客户高效率的量产,与客户共同发展.
承接各种材质平面抛光加工：手机抛光加工、铝合金抛光加工、不锈钢抛光加工、蓝宝石抛光加工、模具钢镜面抛光、陶瓷镜面抛光等加工服务
如果您需要平面研磨抛光或镜面抛光加工，我司可打样测试。研磨抛光加工范围是：工件材质不限，直径或对角线≤470mm，厚度≤200mm。
在线沟通更便捷，只需描述加工要求(工件尺寸、材质、要加工的平面度或粗糙度)，客服会解答您的疑问或邮寄相关资料。测试打样。
在线客服沟通，方便、高效、快捷。我们还会参与到客户的研发生产中，帮助客户高效率的量产。
根据行业技术发展，市场动态和行业分析整理制作出最热门相关研磨专题。
海德人工作中积极主动，生活中也不凡情调。我们坚信：只有开阔视野和愉悦心情，才能在工作中游刃有余。抛光盘转速对材料表面粗糙度的影响
平面抛光过程中，材料的去除是由关系复杂的多个因素相互作用的结果。而样品下方的抛光液的流动特性(如液流层厚度等)直接影响到平面抛光过程中化学作用和机械作用的效果，进而影响着工件表面的加工质量。
图 4.8 抛光盘转速对表面粗糙度的影响
如图 4.8 所示为抛光盘转速对材料表面粗糙度的影响。从图可知抛光盘转速在小于 60r/min 时，表面粗糙度随抛光盘转速的增加而减小，并在 60r/min 时达到最小值 Ra0.028 ，当抛光盘转速大于 60r/min 继 续增加时，合金表面的粗糙度值增大。因为试验中抛光液的流量是有限的，在一定范围内，相同抛光载荷的条件下，抛光盘转速增加使得抛光液在抛光垫上的流 动 速度增加，因此盘面上抛光液液膜的支撑力也会增加，所以为了保持液膜负荷力与抛光压力相互平衡，抛光液液膜的最小厚度增加。
同时，在抛光液膜最小厚度相同的情况下，抛光盘转速的增加，使得抛光液动压效应增强，液膜所承受的负荷力增大，所以为了使抛光液膜能在所受载荷不变的 条 件下达到受力的平衡，只有通过加大抛光液流场内液膜厚度的方式来减小液膜负荷力，同时也使得最小抛光液膜厚度增加。而当抛光盘转速过大时，抛光液在盘 面上 受到的离心力增大，部分抛光液未到达抛光区域即被甩出抛光盘面，导致抛光区域液膜的抛光液供应不足，同时此时抛光压力的作用使得样品与抛光垫之间的 间隙尺 寸很小，抛光液的补充更加困难。所以过高的抛光盘转速，使抛光液膜分布不均匀，抛光后表面质量变差。试验还发现当抛光盘转速过大时，抛光盘盘面抖 动较大， 机床稳定性较差，也不利于得到完美的表面。因此，兼顾多种因素，平面抛光过程中的抛光盘转速应该控制在 60r/min 左右比较合适。
