海德采用日本工艺技术,产品覆盖面广,质量可替代日本同类产品,价格实惠。目前产品线包括:抛光阻尼布、抛光绒布、抛光皮/革、研磨皮垫、CMP抛光垫、氧化铈抛光皮、聚氨酯抛光垫、氧化铈研磨垫、聚氨酯研磨皮等。可完美替代POLYPAS、Supreme (Politex) 系列抛光垫、LP66、LP77、LP26、LP57、KSP等进口CMP抛光片。
产品性能:具有耐磨性.使用周期长.耐高温等特点.可背胶.开槽.压纹.
产品厚度:1.5mm----4.0mm.
开槽规格:10*10 15*15 20*20 25*25 32*32 50*50等,还可按客户要求调整规格.
用途:精密光学、平板玻璃、 LCD 、FPD、存储磁盘驱动器、半导体陶瓷基板、光学玻璃、LED蓝宝石基板、晶体等抛光领域;也可以抛光多种材质的工件如硅片、砷化镓、石墨烯屏、石英晶体、蓝宝石、金属、玻璃基板、半导体陶瓷材料等。